日本企業-業務提携プロジェクト要望書

1、会社概要:
  弊社の創立は1999年で、所在地は、蘇州相城区黄埭鎮瀋陽工業エリアにあるハイテク企業です。工業ガスの研究開発や生産を主力とし、併せて販売とサービスを事業展開しています。主に、顧客に多種多様なバルクガス、特殊ガスとクリーンエネルギーのワンストップガス供給のための解決方法を提供しています。弊社は産学連携として、浙江大学、大連理工大学、大連光明化学研究所、南京大学などとプロジェクトを組み、日々、勤しんでおります。この2年間で、当社は研究開発のために3000万元を計上しており、付属機関として、研究開発センター、CNAS認証実験室、江蘇省特殊ガスエンジニアリング技術研究センター、江蘇省企業技術センター、江蘇省主要企業研究開発機関などがあります。研究チームは115人、上級及び中级レベルの技術者は27人在籍しています。研究開発センター主任の孫猛博士は2014年、江蘇省の「ダブルプラン」に選ばれております。この3年間、さまざまな合計12の研究開発プロジェクトが実施され、そのうち15の製品が商品化され、経済効果と社会的に成果を収めています。
2、プロジェクト名称:TEOS電子化学製品の開発。
3、要望品目:新素材。
4、専門分野:半導体原料
5、要望に関しての説明:
  半導体産業のTEOS電子化学製品を研究開発しています。選択酸化でデバイスを分離する時に使ったシリコン窒化膜も減圧CVD法です。アンモニアとSiH4或いはSi2H6反応面で生成されて、絶縁膜としてのSiO2は ① SiH4とO2が400–450℃でSiH4+O2-SiO2+2H2になり、或いは ② Si(OC2H5)4(TEOS:tetra ethoxy silanc)とO2が約750℃の高温で生成されます。②の方法はTEOSで形成されたSiO2膜で、良好な側壁被覆性能の利点をあります。
6、業務提携による技術移転の依頼や開発条件、期限及び予算や費用等を含め、上記詳細などその他は、面談の上での取り決めを要望いたします。